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透射电子显微镜（TEM）是研究材料微结构zui直接的表征技术之一，能够在纳米到原子尺度对材料微结构进行成像与分析，目前，应用于材料的电学参数表征方法可以分为两大类：一类为宏观尺度技术，比如四点探针法或范德堡法，光学测量等，允许快速检测，但只能提供直流电导率等单一参数信息，另一类为纳米尺度的技术，如拉曼光谱、原子力显微镜、扫描电镜、透射电镜等，能够得到分辨率很高的图像，然而通常需要复杂的样品制备步骤，并且测量速度十分缓慢，无法实现高速测量。
2切片厚度50～100nm为宜：太薄反差低；太厚反差好，但结构重叠，电子束不能穿透；，3切片应耐电子束的强烈照射，不变形不升华；，4切片能够适当被染色，保证一定的反差；，5切片均匀，无影响拍照的皱褶、刀痕或染色污染，其中，DigitalMicrograph不仅能够自动识别Gatan公司电镜拍摄的dm3、dm4、Tif文件中的标尺、放大倍数、仪器型号等信息，还能够对图片中进行上伪色突出对比度、选区傅里叶变换、划线取向灰度分析等。
染色方法有单染，包括铅盐单染和铀盐单染；双染色，醋酸铀染色和柠檬酸铅染色，双染色呈现结果更全面，我们一般采用的双染法进行染色，常用染色剂：醋酸铀，有微弱的放射性，主要染核酸、核蛋白、细胞核、结缔组织，柠檬酸铅，主要染膜结构、脂类、糖原等，易与CO2反应成沉淀，染色中应采取措施避免，电镜照片主要解析粒径分布、单晶/多晶、晶面结构、元素和原子分散，其本质是信号的空间分布，基本机理与比例尺地图是一致的。