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今后，废水处理技能水平将不断进步，在出水水质、出资成本、运转办理、适用性等方面将有更多优势，在污水再生回用方面具有更多的运用空间。 半导体的出产需求经过8个首要工序。超纯水首要用于半导体制作中某些工序前后的清洗。例如，在蚀刻工艺之后，切开晶圆并用超纯水清洗剩余碎片。或许，在离子注入过程之后，清洁剩余离子。此外，超纯水还可用于晶圆抛光或晶圆切开。
Huncotte体系选用核级树脂，可经过共同的靶向离子交换树脂有用控制体系出水的硼离子含量。选用IPC-MS检测硼离子含量，并对硼离子流出物进行分析≤ 0.005μG/L远低于美标E1.3中要求的硼离子含量。 今天，莱特莱德集装箱海水淡化设备已出厂检验。莱特莱德集装箱海水淡化设备处理了空间限制，安装便利、体积小、操作简略。 现在，在水资源紧缺的情况下，加强海水淡化的国产化技能研制，在水资源再利用方面，推行海水淡化设备显得尤为重要，并且现代海水淡化设备也逐渐步入了现代这个快速开展的时代，其有用性和可靠性也越来越被人们所认可。
超纯水是为了研制超纯资料(半导体原件资料、纳米精密陶瓷资料等)运用蒸馏、去离子化、反渗透技能或其它适当的超临界精密技能出产出来的水，不宜饮用。 这样的水是一般工艺很难到达的程度，应该运用超纯水设备进行制备。专业的超纯水设备由预处理(多介质过滤+超滤设备)体系+反渗透体系+EDI电除盐体系+抛光混床体系组成，保证出水水质满足18.2MΩ·cm电子级水产水指标。