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超纯水是一种用于半导体制作过程中的洗涤剂。那么，在半导体出产中运用超纯水会有什么影响呢?在用纳米超精密工艺处理半导体时，假如在各种工艺前后留下一个小颗粒，则会导致差错。因而，在各种工艺前后用超纯水清洗晶圆可以保证清洁度并进步半导体出产率(输出)。
跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
超纯水处理是一般工艺很难到达的程度，莱特莱德选用预处理、反渗透技能、靶向离子交换体系以及后级处理四大步骤，独有的靶向离子交换体系针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子可以稳定≤5ppt。