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超纯水是一种用于半导体制作过程中的洗涤剂。那么，在半导体出产中运用超纯水会有什么影响呢?在用纳米超精密工艺处理半导体时，假如在各种工艺前后留下一个小颗粒，则会导致差错。因而，在各种工艺前后用超纯水清洗晶圆可以保证清洁度并进步半导体出产率(输出)。
半导体职业是一个高能耗的职业。在半导体产品制作过程中，由于出产设备的精密性和出产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对超纯水体系的运用要求更高。 在半导体制作工艺中，50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需求进行化学处理，而化学处理又与超纯水有关水中的杂质会进入硅片，如带入过量的杂质，就会导致器件功能下降、影响产品功能。因而，制备高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技能。
超纯水处理是一般工艺很难到达的程度，莱特莱德选用预处理、反渗透技能、靶向离子交换体系以及后级处理四大步骤，独有的靶向离子交换体系针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子可以稳定≤5ppt。