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今后，废水处理技能水平将不断进步，在出水水质、出资成本、运转办理、适用性等方面将有更多优势，在污水再生回用方面具有更多的运用空间。 半导体的出产需求经过8个首要工序。超纯水首要用于半导体制作中某些工序前后的清洗。例如，在蚀刻工艺之后，切开晶圆并用超纯水清洗剩余碎片。或许，在离子注入过程之后，清洁剩余离子。此外，超纯水还可用于晶圆抛光或晶圆切开。
超纯水是为了研制超纯资料(半导体原件资料、纳米精密陶瓷资料等)运用蒸馏、去离子化、反渗透技能或其它适当的超临界精密技能出产出来的水，不宜饮用。 这样的水是一般工艺很难到达的程度，应该运用超纯水设备进行制备。专业的超纯水设备由预处理(多介质过滤+超滤设备)体系+反渗透体系+EDI电除盐体系+抛光混床体系组成，保证出水水质满足18.2MΩ·cm电子级水产水指标。
超纯水处理是一般工艺很难到达的程度，莱特莱德选用预处理、反渗透技能、靶向离子交换体系以及后级处理四大步骤，独有的靶向离子交换体系针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子可以稳定≤5ppt。