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跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
超纯水是为了研制超纯资料(半导体原件资料、纳米精密陶瓷资料等)运用蒸馏、去离子化、反渗透技能或其它适当的超临界精密技能出产出来的水，不宜饮用。 这样的水是一般工艺很难到达的程度，应该运用超纯水设备进行制备。专业的超纯水设备由预处理(多介质过滤+超滤设备)体系+反渗透体系+EDI电除盐体系+抛光混床体系组成，保证出水水质满足18.2MΩ·cm电子级水产水指标。
超纯水设备成果英勇的“芯” 芯片制作的每一道工序都离不开超纯水，只要水质纯洁了，才能保证每一步的正常运转。超纯水设备为芯片制作保驾护航。传统超纯水制备工艺一般运用离子交换树脂，但离子交换树脂的运用一般需求定期的树脂再生，这既耗费材料又耗费人力。超纯水设备选用超纯水设备选用反渗透工艺，或选用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床出产超纯水，以保证出水水质符合职业标准，满足芯片职业用水需求，成果英勇的“芯”。