真空镀膜是指在高真空条件下，通过加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结在镀件(金属、半导体或绝缘体)表面形成薄膜的方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新技术。简而言之，在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物以固化并沉积在涂覆物体(称为基材、基材或基底)上的方法称为真空涂覆。