将找到的参考谱图复制粘贴到Avantage软件中一个新的窗格，图2，4参考谱图放入新的窗格中，选中要拟合的图谱，点击调出NLLSF拟合工具，5所示，选中待分析的谱图（即有Ni元素俄歇峰干扰的Co2p的窄扫谱图），调出NLLSF拟合工具，5调出NLLSF拟合工具，答：一般情况，我们在zui初拟合的时候都是设置成一样的，包括自旋轨道分裂峰，如果存在特殊情况，峰位相差较大，比如Ti2p、C=O是可以放开的，只要在0。

针对上述复杂图谱，常规拟合方法较难取得好的拟合效果，而采用Avantage软件中独有的NLLSF拟合功能可得到较好的拟合结果，下面我们来讲解一下如何进行拟合，例如，对于此电容器样品，要想进行NLLFS拟合，我们需要获得纯Co(OH)2的窄扫参考谱图，即没有Ni(OH)2俄歇峰干扰的谱图；Ni(OH)2在Co元素结合能范围段（770~820ev）的俄歇参考谱图，即不含Co(OH)2干扰的谱图，如下图2。

当用XPS测量绝缘体或者半导体时，由于光电子的连续发射而得不到电子补充，使得样品表面出现电子亏损，这种现象称为“荷电效应”，荷电效应将使样品表面出现一稳定的电势Vs，对电子的逃离有一定束缚作用，因此荷电效应将引起能量的位移，使得测量的结合能偏离真实值，造成测试结果的偏差，高分辨谱经过分峰拟合之后，就可以用来确定元素的化学态了，或者通过反应前后样品的高分辨谱图对比来得到其表面电子结构的变化信息等等。