超纯水是一种用于半导体制作过程中的洗涤剂。那么,在半导体出产中运用超纯水会有什么影响呢?在用纳米超精密工艺处理半导体时,假如在各种工艺前后留下一个小颗粒,则会导致差错。因而,在各种工艺前后用超纯水清洗晶圆可以保证清洁度并进步半导体出产率(输出)。
半导体职业是一个高能耗的职业。在半导体产品制作过程中,由于出产设备的精密性和出产工艺的复杂性,对其配套设施提出了很高的要求,尤其对超纯水体系的运用要求更高。 在半导体制作工艺中,50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需求进行化学处理,而化学处理又与超纯水有关水中的杂质会进入硅片,如带入过量的杂质,就会导致器件功能下降、影响产品功能。因而,制备高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技能。
半导体业由于技能发展迅速、市场变化大,其出产能力具有波动性。所以,要求与之配套的半导体纯水体系要有一定的可调节性、留有合理的余量,对超纯水设备供水的灵活性,安全性,及时性,提出了更高的要求。莱特莱德半导体纯水体系投入运转后,可以出产出合格的电阻率为18MQ *CM的超纯水,为半导体用水供给用水保障。